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光譜法合金分析儀工作原理介紹
更新時(shí)間:2022-01-12   點(diǎn)擊次數(shù):508次

光譜法合金分析儀工作原理介紹

        合金分析儀是一種XRF光譜分析技術(shù),可用于識(shí)別和量化物質(zhì)中的特定元素。它可以根據(jù)X射線的發(fā)射波長(λ)和能量(E)確定特定元素,并通過測(cè)量相應(yīng)射線的密度來確定該元素的含量。 XRF光譜可以確定物質(zhì)的元素組成。
        每個(gè)原子都有自己固定數(shù)量的電子(帶負(fù)電的粒子)圍繞原子核運(yùn)行。并且電子的數(shù)量等于原子核中的質(zhì)子(帶正電的粒子)的數(shù)量。質(zhì)子數(shù)由元素周期表中的原子數(shù)可知。每個(gè)原子序數(shù)對(duì)應(yīng)一個(gè)固定的元素名稱。能量色散X-熒光和波長色散X-射線熒光光譜分析技術(shù)專門研究和應(yīng)用了內(nèi)層的三個(gè)電子軌道,即K、L和M。K軌道*接近于原子核,每個(gè)電子軌道對(duì)應(yīng)于某種元素的特定能量層。
        在 XRF 分析中,從 X 射線管發(fā)射的高能初級(jí)射線光子撞擊樣品元素。這些初級(jí)光子包含足夠的能量來擊落內(nèi)層(K 層或 L 層)中的電子。此時(shí),原子變成不穩(wěn)定的離子。由于電子本能地尋求穩(wěn)定性,因此來自外層 L 或 M 層的電子進(jìn)入構(gòu)成內(nèi)層的空間。當(dāng)這些電子從外層傳遞到內(nèi)層時(shí),它們會(huì)釋放出稱為二次 X 射線光子的能量。整個(gè)過程稱為熒光輻射。每種元素的二次射線都有自己的特點(diǎn)。 X射線光子熒光輻射產(chǎn)生的能量是由電子轉(zhuǎn)換過程中內(nèi)外層的能量差決定的。特定元素在一定時(shí)期內(nèi)發(fā)射的 X 射線的數(shù)量或密度可用于測(cè)量該元素的數(shù)量。典型的 XRF 能量分布光譜顯示了不同能量下的光子密度分布。

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